随着科技的不断发展，各种技术问题的不断提出，新材料的不断涌现，国内外越来越多的科研机构和设备厂家已认识到等离子技术的重要性，并投入大量资金进行技术攻关。

在目前的微电子工业中，超过三分之一的电子器件设备都采用等离子体技术进行加工，如以Intel处理器为代表的半导体芯片生产过程，三分之一是与等离子体技术相关的。

而微电子工业中的清洗是一个很广的概念，包括诸多与去除污染物有关的清洗工艺。通常是指在不破坏材料表面特性及导电特性的前提下，有效地清除残留在材料上的微尘、金属离子及有机物杂质。

目前已广泛应用的物理化学清洗方法，大致可以分为两类：湿法清洗和干法清洗。从对环境的影响、原材料的消耗及未来发展上看，干法清洗要优于湿法清洗。干法清洗中发展较快、优势明显的是等离子体清洗。

而微波等离子体清洗作为一种绿色无污染的高精密干法清洗方式,可以有效去除表面污染物,避免静电损伤。其主要清洗原理为：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。

经过客户验证，沃特塞恩2450Mhz-200w固态微波源可以用于常压 N2(氮气)或者 CDA（洁净空气），传送带式的工作方式，高效快速地将产品送至等离子电极火焰下烧灼清洗，比如电极清洗，OLED液晶屏清洗等应用环境，在国内外都有很好的验证和案例。

除了上述的2450MHz-200W的微波源应用案例，沃特塞恩还有1KW/1.5KW/2Kw/3Kw等不同功率等级的固态微波源，可在2.45 GHz的频率下集成到客户的等离子体源应用于半导体清洗场景中（如晶圆、IC精密原件、电子显微镜的样品清洗）。

（感谢德国客户提供的1.5Kw微波源现场案例图）

目前，我们已与欧洲以及东南亚客户展开了大力合作，沃特塞恩微波源作为为等离子处理系统提供稳定可靠的能量源装置，不同功率等级可处理不同大小的载体对象，已得到他们的一致认可。

设备自动化的发展，降低了人工成本，提高了生产效率，为企业创造了发展利益，同时也展现了科技的魅力！沃特塞恩深信微波等离子体技术应用范围会越来越广，技术的成熟，成本的降低，其应用会更加普及。