如今，在电子工业清洗大致可分为两种：湿法清洗和干法清洗。湿法清洗已经在电子工业生产中广泛应用，但是湿法清洗过程中所产生的污染和有毒化学剂对环境的危害成为令人困扰的难题。相对而言，干法清洗在这方面有很大的优势，其中特别以等离子清洗技术为例已逐步在半导体、电子组装、精密机械、医疗等行业广泛应用。

用等离子清洗技术清除油污的过程是一个使有机大分子逐步降解的过程，最终形成的是水喝二氧化碳等小分子，这些小分子以气态形式被排除。等离子清洗技术的另一个特点是在清洗完成之后物体已被彻底干燥。经过等离子体处理的物体表面往往形成许多新的活性基团，使物体表面发生“活化”而改变性能，可以大大改善物体表面的浸润性能和黏着性能，这对许多材料是非常重要的。因此等离子清洗具有许多用溶剂进行的湿法清洗所无法比拟的优点。

与湿法清洗相比，等离子清洗技术的优势表现在以下几个方面：

1.在经过等离子清洗之后，被清洗物体已经很干燥，不必再经干燥处理即可送往下道工序。

2.不使用三氯乙烷等有害污染物，属于有利于环保的绿色清洗方式、

3.用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同，它的方向性不强，因此它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部并完成清洗任务，所以不必过多考虑被清洗物体形状的影响。而且对这些难清洗部位的清洗效果与用氟利昂清洗的效果相似甚至更好。

4.整个清洗工艺流程在几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点。

5.等离子清洗技术需要控制的真空度约在100Pa，这种真空度在工厂实际生产中很容易实现。这种装置的设备成本不高，加上清洗过程不需使用价格较昂贵的有机溶剂，因此它的运行成本要低于传统的清洗工艺。

6.由于不需要对清洗液进行运输，储存，排放等处理措施，所以生产场地很容易保持清洁卫生。

7.等离子清洗技术的最大特点是，它不分处理对象，可处理不同的基材，无论是金属，半导体、氧化物、还是高分子次材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物）都可用等离子体很好地处理。因此特别适合不耐热和不耐溶剂的基底材料。而且还可以有选择地对材料的整体，局部或复杂结构进行部分清洗。

8.在完成清洗去污的同时，还能改变材料的本身的表面性能，如提高表面的润湿性能，改善膜的附着力等，这在许多应用中都是非常重要的。

微波常压低温等离子喷枪

目前，沃特塞恩研发的微波常压低温等离子喷枪已成功上市，该产品是专业应用于等离子清洗、材料预处理的低温等离子体发生装置。微波等离子体（此处特指2450MHz频率），相较于中频、高频、射频等电磁频段，其振荡频率更高，可使等离子体中的电子在更小的功率下可以获得更多的能量，等离子体中的电子密度和活性反应物质密度更高。

而沃特塞恩微波源也远销国内外，配套在多类等离子清洗机使用。