什么是CVD金刚石？

CVD金刚石膜是指利用低压化学气相沉积技术人工制备的一种膜状金刚石，以区别于利用高压高温(HPHT)技术人工制备的粉末态金刚石。低压化学气相沉积(CVD)金刚石膜技术是70年代中后期发展起来的一种新兴技术，是继50年代中期利用高压高温法在触媒的催化作用下将石墨转化为金刚石以来，人工合成金刚石领域的又一次重大突破。CVD金刚石预示着人类将能充分利用金刚石的各种优异物理性质。

众所周知，金刚石具有非常优异的性能，具体表现为：具有最高的硬度、室温下热导率最高、热膨胀系数小、全波段高光学透过率、声传播速度快、介电性能好、掺杂后具有半导体性质、以及具有极佳的化学稳定性等。正是金刚石具有这些独特优异性能，使金刚石在机械、电子工业、光学、声学等领域有着广阔的潜在应用前景。