. 采用的固态微波源工作稳定，稳定度高、使用寿命长

. 可使用多种气体，等离子温度可调整，可适应多种应用

. 整体功率小、处理效率更高

. 体积小、重量轻、

. 控制方式简单

常压等离子体喷枪无需真空系统，具有设备体积小、制造和维护成本低等优点，并且由于被处理材料尺寸不受真空腔体体积的限制，易于实现自动化连续处理。同时，对于仅需清洗局部位置的材料，可提供精细化的处理，不会像真空腔清洗方式被全部处理。

静电敏感电子元器件部件的表面预处理（半导体封装）

光学镜面镀膜预处理

特殊材料涂覆前预处理

粘接预处理

微波低温等离子喷枪

常压低温等离子喷枪由微波输入接口、进气口、自动点火装置组成。

可与微波源、气体输入控制装置、总系统控制等组成微波常压低温清洗设备系统。

固态微波源

. 可提供功率稳定（0~200W）、频率精确的（2450MHZ）的微波能量

. 微波能量经由N型母头输出，可连接同轴线延长到设备所需位置（线长超过1米需注意线材损耗）

. 控制方式使用模拟信号IO方式控制，上位机软件仅可实时读取微波源信息

. 完善的保护机制，可对反射功率过大、温度过高、功放电流过大自行断电保护，同时在设备LED上显示

. 微波源直流+28V供电，风扇+24V~+28V供电

微波源详细参数请点击WSPS-2450-200-CMFB产品详情页处查看