微波等离子体清洗是通过微波源激发等离子源将根据工艺选择通入的反应气体（O2/H2/N2/Ar等）离子化，然后离子等物质和表面有机污染物发生化学反应，形成废气被真空泵抽出。被清洗材料表面达到清洗干净目的。

微波等离子体清洗可以不分处理对象，它可以处理各种各样的材质，无论是金属、半导体、氧化物，还是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物）都可以使用微波等离子体来处理，因此特别适合于不耐热以及不耐溶剂的材质；而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗；在被处理材料表面打出无数个肉眼看不到的小孔，同时在表面形成一个新的氧化层薄膜，这样以来大大增加了被处理材料的表面积，间接性的增加了材料表面的粘附性、相容性、浸润性、扩散性等等。而这些性能又恰当的应用在手机，电视，微电子，半导体，医疗，航空，汽车等各行各业中，为众多企业解决多年未曾解决的难题。