微波等离子体CVD化学气相沉积合成钻石是以一颗母石(钻石)作为基底。在相对低温(800度)的环境下，把甲烷(CH4)和氢气(H2)混合后用微波加热产生等离子体，经扩散对流，最后以钻石的结构形态沉淀在基片上

由沃特塞恩固态微波源激发的等离子体清洗可广泛应用于表面工程领域，包括表面清洗、表面活化、表面能刻蚀和粘接的表面制备、表面改性及表面处理等。

在半导体产业链中，等离子清洗?是一个重要环节，它适用于对原料和半成品每一步可能存在的杂质进行清洗，以避免杂质影响产品的质量和下游产品的性能，等离子清洗对于单晶硅的生产、光刻、刻蚀、沉积等关键工艺以及封装工艺中的使用都是必不可少的。

等离子清洗作为最近几年发展起来的清洗工艺为这些问题提供了经济有效且无环境污染的解决方案。针对这些不同污染物并根据基板及芯片材料的不同,采用不同的清洗工艺可以得到理想的效果,但是错误的工艺使用则可能会导致产品报废

微波等离子清洗技术在国外诸多领域已经得到广泛应用，成为许多精密制造行业的必备设备。微波等离子清洗可用于表面清洗、表面活化、晶圆表面处理（清洗/活化），及有机污染物的清洗去除

传统纳米材料制备方法反应溶液温度低,反应时间长,控制条件要求严格。而微波合成法因为具有快速、简便、省电、避免团聚等特点,得到普遍关注