我们都知道人工合成钻石有两种方法，一种是HPHT高温高压法，一种是CVD法，今天，作为资深的CVD培育钻石生长设备厂家，沃特塞恩微波源就带大家着重了解CVD法合成钻石。

根据生长原理的不同，合成单晶金刚石的cvd方法主要分为三种：热丝 cvd 方法 （HFCVD）、直流等离子弧喷射 cvd 方法（DC-PJ CVD）和微波等离子体cvd方法（MPCVD），其中 MPCVD 方法是最重要的。

与 HFCVD 方法相比，MPCVD具有无极性放电的优点，可避免高温下热丝（钽丝、钨丝等）对金刚石的污染。此外，热丝往往对某些气体（如高浓度氧气等）敏感，在生长过程中由于长时间接触反应气体，会影响其使用寿命，从而间接增加合成成本。因此， MPCVD 合成法不仅可以有效避免金刚石污染，而且可以利用反应体系中的多种气体来满足不同的工业需要。

与DC-PJ CVD方法相比，MPCVD方法能够平稳、连续地调节微波功率，稳定地控制反应温度，从而避免了 DC-PJ CVD 方法中因电弧和熄火导致的晶种从基片上脱落的问题。通过调整MPCVD设备反应室的结构，合理控制微波功率和压强，可以获得大面积稳定的放电等离子体，这是生产高质量、大尺寸单晶金刚石的必要条件。因此，与其他 cvd 方法相比，MPCVD方法被认为是最具工业应用前景的金刚石/钻石合成方法。