目前，CVD法制备金刚石膜的工艺日趋成熟而且种类多样，最流行的几种制备方法如下有：热丝法（HFCVD）、微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）、直流等离子体炬法和氧-乙炔燃烧火焰法。

其中，微波等离子体化学气相沉积（MPcvd）是用电磁波能量来激发反应气体。由于是无极放电，等离子体纯净，同时微波的放电区集中而不扩展，能激活产生各种原子基团如原子氢等，产生的离子的最大动能低，不会腐蚀已生成的金刚石。

与热丝法相比，避免了热丝法中因热金属丝蒸发而对金刚石膜的污染以及热金属丝对强腐蚀性气体如高浓度氧、卤素气体等十分敏感等缺点，使得在工艺中能够使用的反应气体的种类比HFCVD中多许多；

与直流等离子体炬法相比，微波功率调节连续平缓，使得沉积温度可连续稳定变化，克服了直流电弧法中因电弧的点火及熄灭而对衬底和金刚石膜的巨大热冲击而造成金刚石膜很容易从基片上脱落；

与火焰法相比，通过对MPCVD沉积反应室结构的结构调整，可以在沉积腔中产生大面积而又稳定的等离子体球，因而有利于大面积、均匀地沉积金刚石膜，这一点又是火焰法所难以达到的。

基于上述几点对比，我们可以看出微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的优越性在所有制备法中都是十分的突出。