微波等离子体能够去除基体表面的弱键以及典型-CH基有机污染物和氧化物。可针对材料表面起作用而对内部无侵蚀，能够得到超高洁净度的表面，为下道工序做好准备

微波等离子体的运行气压很宽，从10-3Pa（微波ECR等离子体制）到超过大气压（微波等离子体炬），并且装置的等离子体发生室和处理室可分可合

国内外有关微波等离子体在材料制备中的应用发展十分迅速，如制备纳米材料、烧结材料、气相沉积等方面均已见成效,诸多研究结果表明,微波等离子体在材料制备方面的应用具有巨大潜力和工业价值

微波等离子体化学气象沉积即是微波等离子体CVD（Microwave PCVD, MPCVD）将微波发生器​产生的微波用波导管经隔离器进入反应器，并通入CH4与H2的混合气体，在微波的激励下，在反应室内产生辉光放电，使反应气体的分子离化，产生等离子体，在衬底上沉积得到金刚石膜

在微电子工业，等离子体刻蚀和气相沉积应用得十分广泛，那么，微波激发等离子体​的形式有几种呢？