微波可应用于不同等离子体环境中，在不同作用环境下，其特点也有所不同。下面我们来说说常用的几个应用环境：

微波应用于等离子体清洗

微波等离子体清洗能够去除基体表面的弱键以及典型-CH基有机污染物和氧化物。可针对材料表面起作用而对内部无侵蚀，能够得到超高洁净度的表面，为下道工序做好准备

微波应用于等离子体刻蚀

微波等离子体刻蚀是利用典型的气体组合形成具有蚀刻性的气相等离子体与物体表面的有机物材料发生化学反应，生成其他比如CO、CO2、H2O 等气体，以此达到等离子蚀刻的目的。其刻蚀优势在于材料工件刻蚀均匀；不伤害工件基体；能够有效去除表面异物达到理想的刻蚀度。

微波应用于等离子体活化

微波等离子体活化是在基体表面形成C=O羰基（Carbonyl）、-COOH羧基（Carboxyl）、OH羟基（Hydroxyl）三种基团。这些基团具有稳定的亲水性能，对粘接有着积极作用。其优点在于可使聚合物表面出现活性原子、自由基和不饱和键，这些活性基团与等离子体中的活性粒子发生反应而生成新的活性基团，增加表面能量，改变表面的化学特性，能够有效地增强表面附着力及粘结力。

微波应用于等离子体涂层（接枝、沉积）

微波等离子体涂层在等离子涂镀中两种气体同时进入反应舱，气体在等离子作用下聚合。这种应用比活化和清洗的要求要更严格一些。典型应用就是保护层的形成，应用于燃料容器、防刮表面、类似聚四氟乙烯(PTFE)材质的涂镀、防水镀层等。

其主要特点在于可使材料表面分子链发生断裂产生新的自由基、双键等活性基团，并因此过程中产生交联、接枝等反应；活性气体能够在材料表面聚合产生一层沉积层，该沉积层的存在将有效地提高材料表面的粘接、涂覆和印刷的结合力。

而沃特塞恩固态功率源作为专用于微波等离子体设备的微波发生源，它有着射频发生源不可比拟的优点，在国外已被多个设备厂家应用于等离子体设备中，国内也有领先者开始创新这项技术。